書籍

強光子場科学の最前線

978-4-904206-02-7
978-4-904206-02-7

強光子場科学基礎から最近の動向までわかりやすく解説

形式:
書籍
著者情報:
強光子場科学研究懇談会 編
発行年月日:
2005年11月30日
判型 / 頁数 :
B5/224頁
ISBN :
978-4-904206-02-7
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強光子場科学の最前線が、平易な、そして語りかけるような文章でお読みいただけます。
本書は、JILS 懇談会での講演に基づいて編集された JILS Newsletterをより読みやすい形として出版するものです。

シリーズ第2巻では、第1部の強光子場と分子にはじまり、
第2部では強光子場科学と密着に関係するX線領域の新光源とレーザー加速等について
それぞれの分野の第一線で活躍する研究者が基礎から最近の動向までわかりやすく解説しています。

第一部 強光子場と分子

第1章 強光子場の新展開

第2章 強高度フェムト秒レーザーと有機分子

第3章 強いレーザー光と物質との相互作用の理論的展開

   ー分子ダイナミクスから細胞の光応答制御までー

第4章 フェムト秒パルスの波形整形とその応用

第5章 分子の内部量子状態を用いた光位相敏感メモリー

第二部 極短波長光源とレーザー電子加速

第6章 様々な試料を用いたパルスX線発生とその応用の可能性

第7章 光科学のフロンティアを拓くX線自由電子レーザー

第8章 レーザープラズマ電子加速を用いた時間分離電子線ラジオグラフィ

第9章 レーザープラズマ加速器開発の最近の進展

第三部 コヒーレント光源による物性研究

第10章 微小領域表面の電子状態分析のためのバルス励起EUV光電子分光法EUPSの開発

第11章 グラファイトとダイヤモンドのコヒーレント光源フェノン

第12章 結城半導体における光誘起相転移の超高速ダイナミクスとコヒーレント振動

第四部 先端企業の研究開発

第13章 サイバーレーザー社におけるレーザーの開発状況

第14章 フェムト秒レーザー用コーティング

第15章 極端紫外線光学素子とその応用例

第16章 表面分析技術を用いた微小領域分析の動向

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